电子级硅材料基体金属杂质的含量检测

电子级硅材料一般要求Si含量达到“11个9”的纯度，即Si≥99.999999999%，而其中的杂质含量更是得以0.1ppb的数量级计，因此，这对电子级硅材料中的基体金属杂质含量的检测方法提出了*高的要求，今天百检小编就带大家一起学习一下使用ICP-MS法进行上述检测的标准方法吧。

本方法适用于基体金属杂质小于5ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。本方法对于铁、铬、镍、铜、锌、钠六种元素的总检出限至少应小于0.4ng/g。

一、试剂：

纯水：符合SEMIF63的规定。

硝酸：质量分数65.0%——68.0%，每种金属杂质含量均低于10ng/L。

氢氟酸：质量分数30.0%——50.0%，每种金属杂质含量均低于10ng/L。

硫酸：质量分数95.0%——98.0%，每种金属杂质含量均低于10ng/L。

标准贮存溶液：铁、铬、镍、铜、锌、钠、钇、钴浓度均为

1g/L，采用国内外可以量值溯源的有证标准物质。

硫酸：用纯水将上述硫酸稀释至质量分数为16.7%。

硝酸：硝酸、纯水的体积比为3：97或其他适当比例。

消解液：硝酸、氢氟酸的体积比为1：2或其他适当比例。

二、仪器和设备

电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS），具备抗干扰模式。

分析天平：感量为0.0001g。

器皿：所用器皿应由聚四氟乙烯（PTFE）或全氟烷氧基树脂（PFA）等耐氢氟酸腐蚀并可清洗且对分析结果无影响的材料制成。

电加热设备：表面为非金属材料，应耐腐蚀。

三、测试环境

温度：大于18℃。

相对湿度：不高于65%。

洁净度：制样和测试区域洁净度应不低于GB/T25915.1—2010中定义的ISO5级的要求。

四、样品制备

将样品破碎成便于溶解的小块，*大直径约5mm——10mm，破碎过程中应严格避免金属沾污。将样品在一定比例的硝酸、氢氟酸溶液中消解清洗，剥离全部表面层后再用纯水洗净。

将样品放置在烧杯中，于电加热板上烘干至恒重。